日本横滨国际光学与光电技术展览会将于2025年4月23日（星期三）至25日举行。研讨会的目的是召集来自日本、美国和世界各地的光掩模、NGL掩模和相关技术领域的工程师和研究人员，讨论最新进展、应用和未来趋势。会议议程将包括受邀论文、投稿论文、海报会议和小组讨论的附加会议。
演讲主题：
第1节
下一代 EUV 掩模板坯的开发
高数值孔径 EUV 光刻的光化空白检测
第 2 节
面板的复杂性和应用的多样化创造了FPD光掩模增长机会，超过了FPD市场本身
第 3 节
确保 3DIC 组件中小芯片的良率和可靠性
支持先进封装和异构集成的解决方案
光掩模刻印技术可满足各种先进封装应用需求
征集有关以下及相关主题的论文：
- 光掩膜材料
- 光掩膜的制造工艺步骤和设备（显影、蚀刻、清洁等）
- 光掩膜刻写工具和技术，包括多光束 EB 刻写器
- 计量/检测/维修工具和技术
- 用于 EUVL/ NIL/ FPD 掩膜的技术和基础设施
- EDA、MDP、曲线 ILT 和 DTCO
- 带 RET 的光掩膜：PSM、OPC、SMO 和多重图案化
- 光掩膜相关光刻技术
- NGL 掩膜技术及其应用： DSA 及其他
- 战略和业务挑战：成本、周期时间和整体掩膜解决方案
- 半导体和电子设备的图案技术
- 半导体制造技术
- 电子束直写和电子束光刻技术
- 利用人工智能技术提高研发和 HVM 效率
- 用于中低端掩膜的传统工具
- 学术界的光掩膜和光刻相关技术
展会最新时间及地点：2025年4月23日至25日??日本-横滨-光电?(意向参展请点击询洽Ky开元集团展览专业展会顾问）
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