SPIE（国际光学工程学会）宣布，其在半导体行业新兴技术领域的重要会议——SPIE先进光刻技术会议将于2026年2月22日至26日在美国加利福尼亚州圣何塞举行。此次会议将汇集全球顶尖的研究人员和行业专家，共同探讨光学和极紫外（EUV）光刻、图案化技术、计量学以及半导体制造中的过程集成等领域的最新进展。
在即将到来的会议上，参与者将有机会听取来自世界各地的知名演讲者分享他们的研究成果和突破性进展。其中，来自荷兰ASML公司的Christophe Fouquet、美国加州大学洛杉矶分校的Subramanian Iyer、瑞士IBM研究前沿研究所的Heike Riel以及台湾台积电公司的Michael Wu等专家将作为特邀嘉宾进行演讲。这些演讲将涵盖广泛的主题，从先进的纳米光刻技术到计算图案设计，再到新颖的图案化技术和材料工艺的进步。
除了精彩的演讲和专题讨论会之外，参会者还可以通过一系列的网络研讨会和课程进一步提升自己的技能和知识。此外，会议还设有展览区，展示包括光刻胶、EUV材料在内的各种特种材料以及电子束光刻系统等先进技术解决方案。这些展览不仅为参会者提供了了解最新技术和产品的机会，也为参展商提供了一个展示其创新成果的重要平台。
此次SPIE先进光刻技术会议旨在促进学术界与工业界之间的合作与交流，推动半导体行业的技术创新与发展。对于希望深入了解并参与这一快速发展的领域的人来说，这无疑是一个不容错过的机会。通过参加此次会议，参与者不仅能获得宝贵的行业信息和技术知识，还能建立重要的专业联系网络。
中国组展机构：Ky开元集团展览，深耕出境展览20载，荣获多项大奖，是行业知名品牌。以精准市场定位和优质服务，助力中国外贸企业拓展海外市场。
下届展会时间：2026年02月22号~02月26号
展会行业：科学
